分析EDI模塊再生造水與超純水設(shè)備RO膜制水欠佳問題

在超純水設(shè)備運(yùn)作一段時(shí)間后，EDI控制模塊內(nèi)部水路將會(huì)造成堵塞，這主要是EDI進(jìn)水里帶有較多物質(zhì)的量濃度

，在濃水室產(chǎn)生鹽的沉定。碰到這類狀況，我們可以根據(jù)開展EDI化學(xué)水處理的方式 對EDI控制模塊開展清理，隨后再開展EDI再造，使之修復(fù)到原先的技術(shù)性特點(diǎn)。那麼超純水設(shè)備怎樣對EDI控制模塊開展再造呢?

EDI再生有二種狀況

，一種是標(biāo)準(zhǔn)狀況，一種是特殊情況

。

一

、標(biāo)準(zhǔn)

1、確定EDI控制模塊內(nèi)沒有一切的化學(xué)品殘余存有;

2、使系統(tǒng)軟件搭建成一個(gè)閉路自循環(huán)系統(tǒng)管路;

3

、依照一切正常運(yùn)作的方式調(diào)整好全部的總流量和工作壓力;

4

、給EDI合閘，調(diào)整電流量從2A剛開始遍布遲緩向EDI載入電流量(較大不可以超出4A);

5

、直到產(chǎn)出電阻達(dá)加工工藝規(guī)定到或是>18MΩ。

二、特殊情況

1

、針對在系統(tǒng)軟件午飯搭建系自循環(huán)系統(tǒng)管路系統(tǒng)軟件能夠依照下邊的流程開展再造;

2

、確定EDI控制模塊內(nèi)沒有一切的化學(xué)品殘余存有;

3、依照系統(tǒng)軟件一切正常運(yùn)作總流量的百分之二十70%調(diào)整每個(gè)總流量閘閥;

4

、每個(gè)工作壓力及壓差依照實(shí)際操作要求開展調(diào)整;

5

、給EDI合閘，調(diào)整電流量從2A剛開始逐層遲緩向EDI載入電流量(較大不可以超出4A);

6

、直到產(chǎn)出電阻加工工藝規(guī)定到或是>18MΩ;

超純水設(shè)備RO膜制水欠佳的緣故

超純水設(shè)備是由好多個(gè)系統(tǒng)軟件構(gòu)成的

，每一個(gè)系統(tǒng)軟件都具有重要的功效，假如超純水設(shè)備的ROro反滲透系統(tǒng)軟件不制水或制水量小，便會(huì)危害到EDI制水作用